微焦点射线DR放大成像是采用微米级焦点的射线源发射射线束，与射线DR成像原理一样，以平板探测器接收射线获取数字图像。与一般射线DR成像方法相比，由于射线机焦点尺寸更小，成像时被检工件可以靠近射线源得到更高放大倍数，由于几何不清晰度几乎可以忽略不计，也能获得清晰成像。

主要技术指标：

225kV微焦点射线源

最小焦点尺寸为6μm

支撑教学环节：工业射线DR成像检测实验、毕业设计、创新创业等。